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"Remote plasma"는 플라즈마를 생성하는 과정이 실제 반응기 내부가 아닌 외부에서 이루어지는 기술을 가리킵니다. 즉, 원료 물질이나 반응기 자체는 플라즈마 상태가 아니지만, 반응기의 외부에서 생성된 플라즈마를 이용하여 원료 물질의 표면 처리, 오염 제거, 산화 작용 등을 수행할 수 있습니다.
이러한 Remote plasma 기술은 장점 중 하나로 반응기 내부에서 발생할 수 있는 부작용을 줄이고 원료에 미치는 영향을 최소화할 수 있다는 점을 들 수 있습니다. 따라서 Remote plasma는 다양한 산업 분야에서 사용되며, 특히 미세한 표면 처리나 환경 친화적인 공정에 활용될 수 있습니다.
Remote plasma 처리는 주로 표면 처리, 청정 공정, 산업 생산 등 다양한 분야에서 사용됩니다. 예를 들어, 반도체 제조 과정에서 Remote plasma 처리는 미세한 표면 오염물을 제거하거나, 원하는 특성을 부여하기 위해 사용될 수 있습니다. 또한 Remote plasma 방법은 환경 친화적인 방식으로 오염물을 처리하는 데에도 활용될 수 있습니다.
전자기장을 이용하여 플라즈마를 생성하거나, 마이크로파 등의 전자기파를 이용하여 플라즈마를 유발시키는 방법 등 다양한 방식으로 Remote plasma를 생성할 수 있습니다.